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PHMRF-100P磁流變拋光機(jī)床
設(shè)備用途
本設(shè)備主要應(yīng)用于高精度光學(xué)玻璃、石英玻璃、藍(lán)寶石晶體材料，陶瓷材料，半導(dǎo)體晶片等硬脆性元件的精密研磨拋光。
設(shè)備簡介
機(jī)床的環(huán)性非導(dǎo)磁研拋盤采用高密度樹脂組成，具有運(yùn)行平穩(wěn)不變形、無沖擊、噪音低的特點(diǎn)，環(huán)形研拋盤對稱分布二到四軸工件夾持裝置，Z軸進(jìn)給方向采用獨(dú)立伺服進(jìn)給，精確控制每個拋光軸的拋光間隙。工件自轉(zhuǎn)采用高速伺服驅(qū)動，研拋盤驅(qū)動采用高精度行星減速機(jī)驅(qū)動。
本機(jī)床的磁場發(fā)生裝置采用高導(dǎo)磁材料設(shè)計(jì)。磁極各發(fā)生器設(shè)計(jì)成可拆分防結(jié)構(gòu)，根據(jù)不同工件的研拋特點(diǎn)，可改變磁極的形狀以適應(yīng)工件拋光的工藝改變。通過調(diào)節(jié)磁場和發(fā)生器的電流從而控制磁流變液的剪切力。磁場發(fā)生器采用內(nèi)置銅管水冷設(shè)計(jì)，可有效控制裝置的升溫引起磁場變化而影響磁流變液的拋光穩(wěn)定性。
機(jī)床配有專用的磁流變液循環(huán)裝置，引用回收裝置將從拋光區(qū)域的磁流變液進(jìn)行回收處理。能夠始終保持磁流變也的成分均勻及溫度穩(wěn)定，從而保證磁流變拋光在一定的工況下，保持最佳的拋光效果。
磁流變液采用輝碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流變液及PHMW-OL01A油基磁流變拋光液，根據(jù)不同工件材質(zhì)不同選用不同的磁流變液。
與傳統(tǒng)的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流變拋光機(jī)床能夠獲得質(zhì)量較高的光學(xué)表面。能夠獲得比較復(fù)雜的表面形狀，通過控制磁場發(fā)生器的電流來控制切削去除量的大小。不會存在刀具磨損，堵塞現(xiàn)象，在可控磁場的作用下，刀具形狀誤差及刀具運(yùn)動的振動誤差，摩擦誤差等在磁流變拋光中對加工精度影響極小。
PHMRF-100P磁流變拋光機(jī)床技術(shù)參數(shù)
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研拋盤材質(zhì) |
高密度樹脂 |
研拋盤外徑 |
600mm/800mm |
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研拋盤形狀 |
環(huán)形 |
研拋盤線速度 |
10m/min~100m/min |
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磁極對數(shù) |
2對/4對 |
磁極高度 |
50mm/100mm |
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勵磁電壓 |
0~24Vdc/0~24V脈沖 |
主軸驅(qū)動 |
交流伺服 |
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工件主軸轉(zhuǎn)速 |
0~5000RPM |
主軸數(shù)量 |
2軸/4軸 |
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Z軸行程 |
200mm/300mm |
Z軸驅(qū)動 |
交流伺服 |
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對刀方式 |
壓力式對刀/磁致伸縮對刀 |
磁流變液基材 |
水基或油基PH值=6~8 |
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最大工件尺寸 |
150mm×150mm |
最大去除率 |
0.2μm/min |
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最小表面粗糙度 |
Ra0.06~Ra0.08μm |
工件裝夾方式 |
夾具或真空 |
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サービス
0769-87928085
